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        TEM氮化硅薄膜窗口

        簡要描述:與X射線用氮化硅窗口類似,透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小,適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規格。同時SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。

        • 產品型號:
        • 廠商性質:代理商
        • 更新時間:2018-05-14
        • 訪  問  量:4270
        詳情介紹

        :/admin@shnti.com

        透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口
        產品概述:
        與X射線用氮化硅窗口類似,透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小,適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規格。同時SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。

         

        現在SHNTI可以提供透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗系列產品,規格如下:
        外框尺寸:

        • 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:0.5 mm,薄膜厚度:50 nm)
        • 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:50 nm)
        • 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:100 nm)
        • 窗口類別:雙縫、九窗格(3×3陣列)

        邊框厚度: 200μm、381μm。 
        Si3N4薄膜厚度: 50nm、100nm
        SHNTI也可以為用戶定制產品(30-200nm),但要100片起訂。
        本產品為一次性產品,SHNTI不建議用戶重復使用,本產品不能進行超聲清洗,適合化學清洗、輝光放電和等離子體清洗。

        技術指標:
        表面平整度:
        我們認為薄膜與其下的硅片同樣平整, TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度為:0.6-2nm。*適用于TEM表征。

        親水性
        該窗格呈疏水性,如果樣品取自水懸浮液,懸浮微粒則不能均勻地分布在薄膜上。用等離子蝕刻機對薄膜進行親水處理,可暫時獲得親水效果。雖然沒有對其使用壽命進行過測試,但預期可以獲得與同樣處理的鍍碳TEM網格相當的壽命。我們可以生產此種蝕刻窗格,但無法保證其使用壽命。如果實驗室有蝕刻工具也可對其進行相應的處理提高其親水性能。



        溫度特性:
        氮化硅薄膜窗口產品是耐高溫產品,能夠承受1000度高溫,非常適合在其表面利用CVD方法生長各種納米材料。

        化學特性:
        氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。

        應用簡介和優點:
        1
        、 適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對同一區域的交叉配對表征。
        2
        、 大窗口尺寸,適合TEM大角度轉動觀察。
        3
        、 無碳、無雜質的清潔TEM觀測平臺。
        4
        、 背景氮化硅無定形、無特征。
        5
        、 耐高溫、惰性襯底,適應各種聚合物、納米材料、半導體材料、光學晶體材料和功能薄膜材料的制備環境,(薄膜直接沉積在窗口上)。
        6
        、 生物和濕細胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后,窗口具有很好的親水性。。
        7
        、 耐高溫、惰性襯底,也可以用于化學反應和退火效應的原位表征。
        8
        、 適合做為膠體、氣凝膠、有機材料和納米顆粒等的表征實驗承載體。

        氮化硅薄膜應用范圍非常廣,甚至有時使不可能變為可能,但所有應用都有無氮要求(因樣本中有氮存在):
        惰性基片可用于高溫環境下,通過TEM、SEMAFM(某些情況下)對反應進行動態觀察。
        作為耐用基片,首先在TEM下,然后在SEM下對同一區域進行匹配。
        作為耐用匹配基片,對AFMTEM圖像進行比較。
        聚焦離子束(FIB)樣本的裝載,我們*使用多孔薄膜,而非不間斷薄膜。


        許多研究納米微粒,特別是含氮納米微粒的人員發現此種薄膜窗格在他們實驗中*。氣凝膠和干凝膠的基本組成微粒尺寸極小,此項研究人員也同樣會發現氧化硅薄膜窗格的價值。
        優點:
        • SEM
        應用中,薄膜背景不呈現任何結構和特點。
        • x-
        射線顯微鏡中,裝載多個分析樣的*方法。
        無氮
        高溫應用,氮化硅薄膜在
        1000°C高溫下仍能保持穩定的性能。

        使用前清潔:
        氮化硅薄膜窗格在使用前不需進行額外清潔。有時薄膜表面邊角處會散落個別氧化物或氮化物碎片。由于單片網格需要從整個硅片中分離,并對外框進行打磨,因此這些微小碎片不可避免。盡管如此,我們相信這些碎片微粒不會對您的實驗產生任何影響。

        如果用戶確實需要對這些碎片進行清理,我們建議用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清潔有機物,用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清潔金屬。

        通常不能用超聲波清洗器清潔薄膜,因超聲波可能使其粉碎性破裂。

         

         

        :admin@shnti.com



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